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白面板手机已绝版！魅族23将在今年亮相：不再采用白面板
在2026魅友新春年会上，星纪魅族集团中国区CMO万志强预告，今年魅族将会推出年度旗舰魅族23，称“魅族23有惊喜也有遗憾”。万志强表示，魅族23的惊喜是其手感更进一步，搭载魅族史上最窄边框，遗憾是魅族23不再采用白色面...[详细]
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英特尔表示18A工艺良品率每月提升7%
英特尔已确认，客户端计算事业部（CCG）总经理Jim Johnson将于太平洋时间2026年1月5日下午3点（北京时间2026年1月6日早上7点）的CES 2026发布会上，重点介绍下一代英特尔PC、边缘解决方案以及代号Pa...[详细]
2025-11-22 09:54:14 -
三星电子近日首次公布2nm工艺量产进展及技术指标！
三星电子近日首次披露其2nm制程工艺量产进展及技术参数：相较于3nm制程，新工艺实现性能提升5%、能效优化8%、芯片面积缩减5%。尽管提升幅度略低于行业此前预期，但这一进展标志着全环绕栅极（GAA）晶体管架构在更先进...[详细]
2025-11-20 08:52:01 -
三星2nm工艺细节公布：能效提升8% 良品率不足60%
据媒体报道，三星电子首次公布2nm工艺量产进展及技术指标：相较3nm制程，新工艺实现性能提升5%、能效优化8%、芯片面积缩减5%。尽管提升幅度低于业界预测，但标志着GAA（全环绕栅极）晶体管架构在更先进节点的持续演进。据...[详细]
2025-11-18 18:22:41 -
三星证明实力！与IBM达成Power11芯片代工协议
据媒体报道，IBM正式发布新一代Power11处理器及服务器，在硬件架构与虚拟化软件堆栈等领域实现全面创新。新处理器确认采用三星增强型7nm EUV光刻工艺（7LPP EUV），结合2.5D ISC先进封装技术，性能较前代工艺...[详细]
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三星2nm工艺良品率持续提升 目前已超过40%
此前有报道称，三星在2nm（SF2）工艺的测试生产中实现了高于预期的初始良品率，达到30%以上。三星计划在2025年第四季度量产2nm工艺，为Exynos 2600的大规模生产做好准备。近日三星2nm工艺开发团队取得了令人...[详细]
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SK海力士1cnm DRAM技术新成果：良品率提升至80%以上
据报道，SK海力士在DRAM芯片技术领域取得重大突破，其1cnm工艺DRAM芯片良品率已从去年下半年的60%快速提升至80%-90%的行业领先水平。这一技术突破正值AI浪潮推动高性能存储需求激增的关键时期，有望帮助SK海...[详细]
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SK海力士1cnm DRAM技术新成果：良品率提升至80%以上
据报道，SK海力士在DRAM芯片技术领域取得重大突破，其1cnm工艺DRAM芯片良品率已从去年下半年的60%快速提升至80%-90%的行业领先水平。这一技术突破正值AI浪潮推动高性能存储需求激增的关键时期，有望帮助SK海...[详细]
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SK海力士1cnm DRAM技术新成果：良品率提升至80%以上
据报道，SK海力士在DRAM芯片技术领域取得重大突破，其1cnm工艺DRAM芯片良品率已从去年下半年的60%快速提升至80%-90%的行业领先水平。这一技术突破正值AI浪潮推动高性能存储需求激增的关键时期，有望帮助SK海...[详细]
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SK海力士1cnm DRAM技术新成果：良品率提升至80%以上
据报道，SK海力士在DRAM芯片技术领域取得重大突破，其1cnm工艺DRAM芯片良品率已从去年下半年的60%快速提升至80%-90%的行业领先水平。这一技术突破正值AI浪潮推动高性能存储需求激增的关键时期，有望帮助SK海...[详细]
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SK海力士1cnm DRAM技术新成果：良品率提升至80%以上
据报道，SK海力士在DRAM芯片技术领域取得重大突破，其1cnm工艺DRAM芯片良品率已从去年下半年的60%快速提升至80%-90%的行业领先水平。这一技术突破正值AI浪潮推动高性能存储需求激增的关键时期，有望帮助SK海...[详细]
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SK海力士1cnm DRAM技术新成果：良品率提升至80%以上
据报道，SK海力士在DRAM芯片技术领域取得重大突破，其1cnm工艺DRAM芯片良品率已从去年下半年的60%快速提升至80%-90%的行业领先水平。这一技术突破正值AI浪潮推动高性能存储需求激增的关键时期，有望帮助SK海...[详细]
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SK海力士1cnm DRAM技术新成果：良品率提升至80%以上
据报道，SK海力士在DRAM芯片技术领域取得重大突破，其1cnm工艺DRAM芯片良品率已从去年下半年的60%快速提升至80%-90%的行业领先水平。这一技术突破正值AI浪潮推动高性能存储需求激增的关键时期，有望帮助SK海...[详细]
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SK海力士1cnm DRAM技术新成果：良品率提升至80%以上
据报道，SK海力士在DRAM芯片技术领域取得重大突破，其1cnm工艺DRAM芯片良品率已从去年下半年的60%快速提升至80%-90%的行业领先水平。这一技术突破正值AI浪潮推动高性能存储需求激增的关键时期，有望帮助SK海...[详细]
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SK海力士1cnm DRAM技术新成果：良品率提升至80%以上
据报道，SK海力士在DRAM芯片技术领域取得重大突破，其1cnm工艺DRAM芯片良品率已从去年下半年的60%快速提升至80%-90%的行业领先水平。这一技术突破正值AI浪潮推动高性能存储需求激增的关键时期，有望帮助SK海...[详细]
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SK海力士1cnm DRAM技术新成果：良品率提升至80%以上
据报道，SK海力士在DRAM芯片技术领域取得重大突破，其1cnm工艺DRAM芯片良品率已从去年下半年的60%快速提升至80%-90%的行业领先水平。这一技术突破正值AI浪潮推动高性能存储需求激增的关键时期，有望帮助SK海...[详细]