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TEL 熊本研发设施竣工，着眼于 1nm 及更先进制程半导体设备

全球四大半导体制造设备传统巨头之一的 TEL 日本当地时间 15 日宣布其位于九州地区熊本县合志市的新工艺开发大楼正式竣工，将投入涂布显影和清洗系统的研发工作。TEL 的这栋新建筑共有地上四层，总建筑面积约 2.7 万平方米，设有用于...[详细]

标签： 1nm TEL 熊本半导体设备涂布显影

2025-10-20 18:36:47

当全球芯片竞赛迈入1nm前夜，日本半导体“隐形冠军”Tekscend Photomask携1566亿日元巨额开启IPO，一举成为2025年东证最受瞩目的资本盛宴。从凸版印刷事业部蜕变为全球前三光掩模龙头，它不仅掌控2nm及...[详细]

标签： 1nm 光掩模半导体 IPO Tekscend Photomask

2025-10-13 21:57:16

据媒体报道，三星电子已经成立1nm工艺研发团队，开发其下一代1nm工艺节点，目标是在2029年实现量产。报道称，三星电子半导体研究所已经开始着手研发1nm工艺，部分曾参与2nm工艺研发的人员被抽调至该团队。三星对1nm工...[详细]

标签： 1nm 三星量产

2025-04-10 19:21:24