光刻
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美国逼迫台积电追加1000亿美元投资内幕曝光：指控全男工程师违法
台积电近年来不断增加对美国先进半导体的投资，总额已经达到了1650亿美元，但美国方面认为还不够，要求增加更多投资。美国商务部长卢特尼克日前披露了他们是如何给台积电施压增加投资的，一方面是通过100%的关税压力施压，逼着台...[详细]
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1.4nm制程！纳米压印技术突破
近日，日本印刷株式会社（DNP）宣布，成功开发出电路线宽仅为10nm的纳米压印（NIL）光刻模板，可用于相当于1.4纳米等级的逻辑半导体电路图形化，可以满足智能手机、数据中心以及NAND闪存等设备中使用的尖端逻辑半导体的...[详细]
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美国发力EUV光刻
美投百亿建EUV中心，探索替代技术，日欧跟进。在先进芯片制造方面，EUV光刻机是不得不提的重要组成。而提及EUV光刻的时候，大家首先想到的是ASML。诚然，作为市场上领先的光刻机厂商，ASML在光刻机方面的实力不容忽视。...[详细]
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EUV光刻，有变
EUV技术自从其提出以来，面临着多重挑战，包括高成本、复杂的光学系统以及需要在高精度下制造光罩等。然而，随着技术不断成熟，EUV逐渐突破了制程限制，尤其在10nm及以下的制程中展现出了其不可替代的优势。近期，英特尔、im...[详细]
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