光刻_新闻频道TAG标签系统_17173.com中国游戏第一门户站

阿斯麦：英特尔实现High NA EUV高数值孔径光刻量产应用

阿斯麦High NA EUV光刻技术助力英特尔18A工艺量产Panther Lake芯片，良率已达现有EUV水平，产能提前达标，引领半导体制造新突破。[详细]

标签：光刻阿斯麦英特尔 High NA EUV Intel 18A

2026-07-15 15:00:28

7月14日消息，欧盟委员会7月14日宣布批准6.59亿欧元（注：现汇率约合50.96亿元人民币）德国国家援助，用于支持该国境内四个半导体设施项目，涉及生产碳化硅[详细]

标签：光刻半导体碳化硅晶圆 MOSFET

2026-07-14 20:02:50

EUV统治地位受挑战！原子光刻、X射线光刻、华为新架构等颠覆性技术涌现，2030年前或将重塑尖端芯片制造格局，告别单一依赖，点击了解未来五年芯片变革！[详细]

标签：光刻 EUV AI芯片华为原子光刻

2026-07-13 10:02:57

DUV光刻突破极限！SMIC新专利逼近台积电2nm，无需EUV光刻机，晶体管密度达1.Xnm级，半导体工艺的未来黑科技！[详细]

标签：光刻 SMIC DUV EUV 芯片

2026-07-05 19:02:11

TrendForce预测：2024年存储器行业产值将达晶圆代工2倍以上！AI驱动超级周期，CSP需求激增134%。了解存储器与晶圆代工走势分化关键原因，点击查看行业深度分析。[详细]

标签：光刻存储器晶圆代工 AI 产值

2026-02-09 18:00:56

台积电近年来不断增加对美国先进半导体的投资，总额已经达到了1650亿美元，但美国方面认为还不够，要求增加更多投资。美国商务部长卢特尼克日前披露了他们是如何给台积[详细]

标签：光刻台积电美国投资半导体

2026-01-14 10:40:31

DNP突破1.4nm制程！纳米压印技术实现10nm线宽，成本降低90%，功耗仅EUV十分之一。替代EUV光刻，2027年量产，助力半导体微型化与节能。点击了解详情！[详细]

标签：光刻纳米压印技术 1.4nm制程半导体 EUV

2025-12-16 16:28:01

标签：光刻美国 EUV

2025-07-16 14:12:09

标签：光刻 EUV 变化

2025-03-10 14:33:13