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阿斯麦：英特尔实现High NA EUV高数值孔径光刻量产应用

阿斯麦High NA EUV光刻技术助力英特尔18A工艺量产Panther Lake芯片，良率已达现有EUV水平，产能提前达标，引领半导体制造新突破。[详细]

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2026-07-15 15:00:28
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ASML CEO预警：AI芯片短缺将延续数年新光刻机虽贵但能降成本

ASML CEO预警AI芯片短缺将持续数年，新光刻机虽贵但能降成本20-30%。了解AI爆发对供应链的冲击及对华出口策略。[详细]

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2026-05-06 17:03:20
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三星美国芯片工厂获准提前运营，为特斯拉生产AI5/AI6芯片！了解2纳米工艺进展及与台积电的竞争详情。[详细]

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2026-02-08 16:00:37
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Intel前CEO基辛格找到新工作：开发FEL EUV极紫外光刻成本大降2/3

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2025-04-14 18:39:28
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