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1.4nm制程！纳米压印技术突破

近日，日本印刷株式会社（DNP）宣布，成功开发出电路线宽仅为10nm的纳米压印（NIL）光刻模板，可用于相当于1.4纳米等级的逻辑半导体电路图形化，可以满足智能手机、数据中心以及NAND闪存等设备中使用的尖端逻辑半导体的...[详细]

标签：光刻纳米压印技术 1.4nm制程半导体 EUV

2025-12-16 16:28:01

美投百亿建EUV中心，探索替代技术，日欧跟进。在先进芯片制造方面，EUV光刻机是不得不提的重要组成。而提及EUV光刻的时候，大家首先想到的是ASML。诚然，作为市场上领先的光刻机厂商，ASML在光刻机方面的实力不容忽视。...[详细]

标签：光刻美国 EUV

2025-07-16 14:12:09

EUV技术自从其提出以来，面临着多重挑战，包括高成本、复杂的光学系统以及需要在高精度下制造光罩等。然而，随着技术不断成熟，EUV逐渐突破了制程限制，尤其在10nm及以下的制程中展现出了其不可替代的优势。近期，英特尔、im...[详细]

标签：光刻 EUV 变化

2025-03-10 14:33:13