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NEO Semiconductor 完成 3D 堆叠内存 X-DRAM 概念验证,可用现有 NAND 产线制造

导语
NEO Semiconductor完成3D堆叠内存X-DRAM概念验证,利用现有NAND产线制造,实现10¹⁴循环耐久、读写延迟<10ns,获宏碁创始人战略投资。

4 月 24 日消息,3D 存储半导体 IP 企业 NEO Semiconductor 美国加州当地时间 23 日宣布其 X-DRAM 成功完成概念验证芯片制造,证明这一 3D 堆叠内存可利用现有 3D NAND 闪存生产线制造。

NEO Semiconductor 的 X-DRAM 验证芯片实现了 10¹⁴ 循环耐久,读写延迟<10ns,85℃ 下数据保持时间>1s(注:这一数据是 JEDEC 为标准 DRAM 给出的 64ms 的 15 倍)。

NEO Semiconductor 同时宣布得到了宏碁创始人施振荣领导的新一笔战略投资。

【来源:IT之家】

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