黄仁勋自曝NVIDIA新一代GPU！GAA晶体管技术将带来20%性能提升

近日，黄仁勋在GTC 2025大会访谈中表示，依靠环绕栅极（GAA）晶体管的下一代制程技术，将为新一代GPU带来20%的性能提升。

如无意外，黄仁勋所说新一代GPU，应该是指预计在2028年推出的Feynman。

报道称，黄仁勋在问答中似乎淡化了制程节点变化的重要性，强调摩尔定律的放缓，代表着未来全新的制程技术在密度、功率和或能效方面的改进有限，预计只会带来20%左右的改进。

黄仁勋还指出，虽然由领先工艺技术实现的改进受到欢迎，但它们不再具有变革性。

“我们会接受它，”他说，但表示其他因素更重要。随着AI系统的扩展，管理大量GPU的效率变得比每GPU的原始性能更重要。

通常来说，NVIDIA不会率先采用台积电最新的工艺制程，而会选择次新的成熟制程技术。

比如，NVIDIA目前正在使用台积电的4nm制程技术来生产针对消费等级以及数据中心的Ada Lovelace、Hopper和Blackwell等构架GPU，而台积电4nm节点制程本质上是5nm节点制程的改良版。

而NVIDIA的下一代GPU构架RuBin，计划是采用台积电3nm节点制程，可能是N3P或者是针对NVIDIA的订制化版本。

因此，NVIDIA首款采用GAA制程技术的产品，则应该是在2028年推出的Feynman构架上。

当然黄仁勋并没有提及会采用哪家的GAA制程技术。 所以，理论上台积电N2制程技术，还是三星的类似技术，甚至是Intel 18A都有可能。

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