台积电 2 纳米芯片技术泄漏事件疑云，专家称涉事员工未接触敏感研发信息

科技媒体 WccfTech 昨日（8 月 7 日）发布博文，报道称台积电 2nm 芯片技术泄漏事件所产生的危害，可能低于预期。分析人士认为，涉事员工权限较低，所涉信息更多与设备性能相关，不包含关键研发资料。

援引博文介绍，涉事员工隶属于台积电新竹 Fab 20 厂区，该工厂正筹备 2nm 工艺量产。该名员工疑似拍摄了控制图表或晶圆布局图，并将其分享给日本 TEL 公司员工，而 TEL 是台积电的设备供应商，提供光阻涂布机、显影机等核心设备。

为 DigiTimes 撰稿的行业专家认为，涉事员工的相关行为，更可能出于安装设备过程中参考所需。台积电和 TEL 公司已解雇涉事员工，并表示“未发现机密信息外泄”。此外有观点认为，台积电选择开除该员工，或更多出于“杀鸡儆猴”的目的，以强化内部保密意识。