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国产光刻胶又一突破:DUV光刻+浸没式ArF打入国内头部晶圆厂

2026-06-11 22:01:30 神评论
17173 新闻导语

国产光刻胶重大突破!鼎龙股份浸没式ArF光刻胶成功打入国内头部晶圆厂,获近千加仑订单,技术水平达14nm-7nm节点,加速国产替代进程。

在先进工艺方面,除了最受关注的光刻机之外,国内被卡脖子的环节还有先进光刻胶,现在又有一家公司杀进这个市场,开始给国内头部晶圆厂供货了。

鼎龙股份今晚发布公告,宣布近期在KrF/ArF高端晶圆光刻胶领域持续取得订单突破。

公司年产300吨KrF/ArF高端晶圆光刻胶产线自2026年3月20日投产后,已向两家头部晶圆厂客户交付数百加仑浸没式ArF及KrF光刻胶,并在客户量产产线顺利应用。

因公司光刻胶产品性能稳定、使用效果良好,上述两家客户近期合计新增订单近1,000 加仑。

截至本公告披露日,公司已有8款高端晶圆光刻胶(其中ArF光刻胶与KrF光刻胶各4款)取得多家国内主流晶圆厂客户的批量订单,即较今年一季度末新增5款,并有数款产品预期在今年年内实现订单转化。

公司正积极提升产品交付速度,2026 年上半年产品交付量预计显著提升,商业化进程显著加快。

测试进展方面,公司已经累计布局40余款高端晶圆光刻胶,近30款产品向客户送样开展验证测试,其中超10款进入加仑样测试阶段。

这个公告的意义在哪里?此前国内少说也有四五家公司宣布ArF光刻胶开始出样给厂商,但他们很少提及这个光刻胶的具体技术水平,而鼎龙这个公告中加入了浸没式ArF这个说法,意味着这次的光刻胶技术水平是比较高水平的了。

光刻胶虽然是半导体制造中的核心材料之一,但不同产品技术水平差异很大,最先进的当属EUV光刻胶,国内还在科研攻关中,而ArF是目前主流的DUV光刻机(193nm波长)所用的光刻胶。

但是ArF光刻胶是干式的还是浸没式的差别也很大,前者一般用于28nm之前的工艺,浸没式ArF(有的缩写为ArFi)则是14nm到7nm节点在用的,技术水平要更高一两个级别。

德邦这个22年发布的研报中还提到ArF光刻胶价格差不多要1000万元一吨,这两年各种涨价之下只会更高了,因此含金量还是很高的。

鼎龙这次公告宣布的浸没式ArF光刻胶供货国内两大头部晶圆厂(具体可以猜猜是谁)也算是一个重要突破了,在此之前国内只有南大光电去年宣布给国内晶圆厂出样过浸没式ArF光刻胶,其他厂商多是含糊提到ArF或者KrF光刻胶出样。

当然,更详细的技术细节是没有企业官方公告的,一方面是国内产业发展的保密需要,另一方面估计也没有哪家企业愿意透露具体指标,股民们要的就是这种模糊感才有的想象空间。

【来源:快科技】
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