光刻机在华销售额显著下降！ASML最新发声：中国将加速自主替代

“如果我将你放到沙漠里，告诉你今后再也没有食物来源了，你需要多久才开垦出自己的菜园？”

20日参加在比利时安特卫普举行的科技活动时，荷兰光刻机巨头阿斯麦（ASML）首席执行官富凯呼吁，针对芯片制造设备输华的出口，制定更为一致的规则。

他认为，持续收紧的对华光刻机出口管制，非但无法遏制中国芯片产业发展，反而会加速中国自主研发替代设备的步伐。

美国国会4月提出《硬件技术控制多边协调法案》（MATCH 法案），要求荷兰、日本等盟友全面遵守美国出口管制措施，在现行极紫外光刻机（EUV）对华全面禁售的基础上，进一步将浸没式深紫外光刻机（DUV）等设备也纳入限制范围，甚至禁止为已售设备提供售后服务。

对此，荷兰政府已明确表示反对，认为该法案存在不合理的域外管辖效力。

富凯指出，阿斯麦目前向中国市场出售的DUV设备，本身基于2015年的技术，对应八代之前的芯片制造工艺。

他用一个形象的比喻强调了限制的反效果：“如果我将你放到沙漠里，告诉你今后再也没有食物来源了——你需要多久才开垦出自己的菜园？这是存亡的问题。”

事实上，出口管制已经对阿斯麦的在华业务造成显著冲击。阿斯麦今年1月预计，公司2026年在中国市场销售额占比将从去年的33%大幅下滑至20%。中国海关总署的数据也印证了这一趋势，今年第一季度，中国从荷兰进口的光刻设备同比下降24.3%。

业内分析认为，富凯的表态反映了欧洲科技企业对美国单边管制政策的担忧。过度限制不仅会损害全球半导体产业链的稳定，也会倒逼中国加快核心技术自主化进程，最终可能导致管制措施失去原本的意义。