14A工艺29年量产 Intel工艺路线图推至0.7nm:密度还能翻倍
Intel公布芯片工艺路线图:14A工艺2029年量产,10A/7A工艺将晶体管密度翻倍。苹果、马斯克等巨头已确定采用,美国半导体制造迎来重大突破!
Intel这一年来股价大涨5倍多,CEO陈立武自己都表示他们已经成为美国的国宝,因为晶圆制造实在是太重要了。
Intel之所以重新受宠,一方面是CPU的AI价值被重耕,另一方面则是源于Intel的芯片工艺开始走上正轨,相比以往那种难产、跳票进而没有客户采购的困境已经大幅改善了。
就说潜在的代工客户,苹果使用Intel的18A-P及未来的14A工艺差不多是确定了,马斯克也表态使用Intel的14A工艺,不过他们的量产进度不太靠谱,马斯克从零打造TeraFab这种巨型芯片厂不会那么容易。
后面还有NVIDIA、高通、谷歌、Meta、微软等公司在谈着,反正美国公司用美国工艺是天然的正确路线,只要Intel自己靠谱,没有美国公司敢拒绝。

现在的关键就是Intel自己的工艺技术能否快速成熟稳定了,CEO陈立武日前在摩根大通的大会上谈到了一些进展。
当前的18A工艺已经量产,核心问题是良率提升,现在可以做到每个月提升7%的业界标准水平,这是之前就透露过的信息了。
18A-P是增强版18A工艺,主要是改善散热,进而提高性能,散热效率说是提升50%,在相同功耗下实现超过9%的性能增益,在相同性能下功耗降低超过18%。
再往后的下一代工艺是14A,升级第二代GAA晶体管结构,采用High NA EUV光刻机生产,目前已经做到了0.5 PDK,10月份交付0.9 PDK,这个阶段差不多可以给客户生产样品了。
14A工艺计划在2028年风险试产,2029年量产,该说不说这个进度比之前的预期晚了1年了,产品要到2029年下半年才能看到了。
再往后就是10A、7A,也就是等效于1nm、0.7nm工艺了,目前还在Intel的规划阶段,10A工艺可能会用Forksheet晶体管结构,7A则会上CFET晶体管结构,理论上能把密度再提升一倍。

当然了,这两个工艺距离量产还比较遥远,至少也是2030年之后的事了,这些技术很多还在开发中,如果再遇到跳票什么的情况,10A能在2031年试产就不错了,7A估计要奔着2034年了,这个时间点也是IMEC前不久公布的芯片工艺路线图提到的。

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