俄罗斯光刻机破冰！已搞定自研350nm光刻机

据报道，在西方国家严苛的出口管制下，俄罗斯在半导体自主化道路上迈出关键一步。

俄罗斯国家工业信息系统（GISP）最新目录显示，由泽列诺格勒纳米技术中心（ZNTC）自主研发的新型光刻系统已正式纳入国家工业设备名录。

这也意味着俄罗斯在构建独立半导体制造生态系统、打破西方技术封锁上，迈出了从实验室研发到工业化部署的实质性一步。

该设备是一款对准和投影曝光装置，核心指标为350纳米（0.35微米）分辨率，采用365纳米波长i线紫外光源，可处理200毫米标准晶圆，对准精度达90纳米。

虽然这一制程节点与全球最尖端的3纳米工艺存在代差，但在工业体系中依然具有极高的实用价值，具备量产工业级芯片能力，可应用于电源管理、汽车电子、航空航天控制及嵌入式系统等领域。

GISP目录收录不仅是行政程序，更为国产设备打开国内市场通道，根据俄罗斯国家战略，政府及国企采购将优先选择名录内产品。

业界分析指出，现代工业对350纳米等成熟制程芯片需求稳定且庞大，汽车功率器件、工业机器人控制芯片、导弹制导系统抗辐射元件等均无需极致微缩化，更看重可靠性与供应稳定性，这台设备恰好填补了俄罗斯在成熟制程供应链上的空白。