消息称三星电子加速平泽 P5 晶圆厂洁净室建设，提升扩产灵活性

2 月 19 日消息，韩媒 ZD** Korea 当地时间 17 日报道称，三星电子近期通知平泽 P5 施工方，争取在 2026Q2 即启动该晶圆厂洁净室建设的前期工作，相较此前的计划提早半年，其它工序的进度计划也相应前移。

平泽 P5 是三星电子关键的下一代半导体生产设施，目标 2028 年投入运营，瞄准 HBM 等 AI 产品。韩媒指出该晶圆厂拥有分布在 3 层的 6 个洁净室，而三星平泽园区的其它晶圆厂则仅有 2 层共 3 个洁净室，P5 要更大一些。

报道认为，三星电子加速洁净室建设的策略旨在为日后的实际投产与产能爬坡提供更大的灵活性：三星电子可相机而动，面对半导体市场环境变化时实现更快的扩产响应速度。