国家知识产权局：将加快推动《集成电路布图设计保护条例》修改，完善人工智能等领域保护制度

2026 年是“十五五”开局之年，在今天国务院新闻办公室举行的新闻发布会上，国家知识产权局相关负责人表示，将加快推动商标法新一轮全面修改和《集成电路布图设计保护条例》修改。加强地理标志专门立法研究论证。完善人工智能等新领域新业态知识产权保护制度。不断健全数据知识产权保护规则，进一步深化相关试点。

2025 年，我国共授权发明专利 97.2 万件，实用新型专利 146.1 万件，外观设计专利 66.6 万件。专利复审和无效结案 9.6 万件。发明专利审查周期压减至 15 个月，结案准确率提升至 95.6%。受理 PCT 国际专利申请 7.8 万件。我国专利申请人通过海牙协定提交外观设计国际申请 2844 件。

截至 2025 年底，我国国内（不含港澳台）发明专利有效量达到 532 万件，每万人口高价值发明专利拥有量达到 16 件。专利密集型产业增加值占 GDP 比重升至 2024 年的 13.38%，超额完成知识产权“十四五”规划预期目标。

集成电路布图设计方面，全年集成电路布图设计登记发证 1 万件。截至 2025 年底，我国集成电路布图设计累计登记发证 9.3 万件。