浙江征求意见：晶圆制造领域加速突破3-7nm制程 发展先进制程光刻机、刻蚀机等

近日，浙江省经济和信息化厅发布关于公开征求《浙江省“十五五”新型工业化规划（征求意见稿）》意见的通知。

意见稿提到，新时代新征程，以中国式现代化全面推进强国建设、民族复兴伟业，实现新型工业化是关键任务。为扎实推进新型工业化，加快建设全球先进制造业基地，特制定本规划。规划期限为2026-2030年。

征求意见指出，芯片设计与制造领域，突破低功耗芯片设计，发展高端通用芯片、专用芯片、智能芯片等，开发第五代精简指令集架构芯片。

晶圆制造领域，加速突破3-7nm制程。关键材料领域，发展化合物半导体材料、电子气体、高纯靶材、光刻胶等。关键设备领域，发展离子注入机、涂胶显影、先进制程光刻机、刻蚀机等。

封装测试领域，加快突破芯粒封装、三维异构集成封装、异质封装、脉冲序列测试等技术。新一代半导体领域，发展氧化镓、金刚石、碳化硅、氮化镓等。

以下为征求意见稿原文截图：