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华为黄宇:韬定律最大挑战在于 EDA 工具

导语
华为EDA首席科学家黄宇:韬定律最大挑战在EDA工具,直面工艺、工程与系统设计挑战。了解四层架构,直击芯片之母核心技术!
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10 月 15 日消息,据《科创板日报》今天报道,华为半导体 EDA 首席科学家黄宇今日在 2026 湾芯展上表示,韬定律最大挑战在于 EDA 工具。同时工艺挑战、工程挑战和系统设计挑战也都存在。

黄宇透露,华为的韬(τ)定律主要分四层:最基础的器件层,优化晶体管结构和互联方式,从源头压缩器件时间常数;第二层是链路层,这是他们最大的创新点;第三层是芯片层,软硬件协同设计,形成新架构;第四层是系统层,即大家熟知的超级节点、机柜互联,需要更好的通讯协议和更快的速度。

注:EDA 全称电子设计自动化(Electronic Design Automation)。它是指利用计算机辅助设计(CAD)软件来完成超大规模集成电路(VLSI)芯片及电子系统的功能设计、综合、验证、布局和布线等全流程的软件工具链。

在半导体与微电子领域,EDA 被称为“芯片之母”。就像炒菜要用锅一样,芯片设计师设计成百上亿个晶体管组成的芯片时,必须依赖 EDA 软件。

【来源:IT之家】

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