比蔡司更乐观 黄仁勋：中国2030年就能搞定先进光刻机

ASML是当前唯一能量产EUV光刻机的公司，欧美限制国内芯片产业也是靠限制ASML供应，但黄仁勋判断中国公司在2030年就能搞定先进光刻机。

在日前的All-In峰会上判断，NVIDIA CEO黄仁勋回应了主持人提问的中国什么时候能搞定先进光刻机，黄仁勋判断中国到2030年就能做出自己的先进光刻系统。

他还提到一旦技术成熟，中国公司就有很强的大规模生产能力，国产设备进入本土晶圆厂只是时间问题。

国外对中国光刻机的进展一直是非常关心的，在这方面各种表态都有，有意思的是前不久蔡司半导体负责人Frank Rohmund也回答了类似的问题，表示中国要做出国产EUV光刻机可能还需要约15年。

相比之下，黄仁勋的判断更乐观，不过这两个回答之间也没有可比性，蔡司回应的是EUV，黄仁勋说的是先进光刻机，EUV当然是先进光刻机，但DUV依然也是先进光刻机，2030年也不会落伍，重要性也不会因为EUV量产了就降低，两种技术是独立的生态。