俄企业成功开发 150nm 电子束直写光刻原型系统

7 月 24 日消息，据俄罗斯媒体 CNews 当地时间 20 日报道，该国企业泽列诺格勒纳米技术中心已于今年 6 月成功开发出 150nm 电子束直写光刻原型系统，这一设备的名称似乎可以意译为 "Progress ELL 150"。

泽列诺格勒纳米技术中心负责人表示，目前正对两套原型系统进行一系列为期 4 个月的初步测试，此后则将开始测试图案化精度及其它技术参数。

电子束光刻是一种不依赖掩模版的光学图案化技术，对于小规模制造具有灵活便捷的优势，但难以大规模生产。在传统半导体制造产业链中，电子束光刻通常用于掩模制造环节。

不过对于俄罗斯刚需的航天或国防工业芯片而言，其市场规模本就相对较小，直接使用电子束光刻或许也具有商业化的可能性。