IBM开创亚1纳米芯片新纪元:指甲盖大小塞进千亿晶体管
IBM推出0.7纳米芯片技术,指甲盖大小集成千亿晶体管!性能飙升50%,AI训练时间缩短至几周。亚1纳米新纪元,未来五年商业化。
北京时间周四傍晚,老牌科技巨头IBM宣布推出“全球首个亚1纳米芯片技术”,展示逻辑芯片刚开始迈入“2nm时代”的当下,还有办法继续通过技术跃迁大幅提升能效。
具体而言,IBM的最新“重大半导体突破”是所谓0.7纳米(7埃)节点的晶体管架构,能够在指甲大小的芯片上集成近1000亿个晶体管,密度几乎是IBM 2021发布的2nm芯片的一倍。

在另一篇博客中,IBM表示,如今流行的AI加速器大约能提供1,500TOPS(万亿次操作/秒)的算力,采用7埃技术的加速器可提供约7倍的性能,达到约7,000 TOPS。若用7埃芯片来训练当今庞大、处于前沿的LLM,可以将训练时间从约三个月大幅缩短到几周。
为了实现这一进步,IBM开发了一种名为“纳米栈”(nanostack)的新型晶体管架构。这种架构将晶体管进行垂直堆叠并错位排列,利用三维顺序集成技术,在一块芯片上塞入更多晶体管。
该设计还解锁了在每个堆叠层内使用不同材料组合的可能性,从而在不相互影响的情况下优化每个晶体管的性能和能效。
需要注意的是,如今晶体管节点的命名更多指向制造工艺,而并非芯片中接触式金属导线的宽度。在IBM的案例中,这意味着原子级工程——晶体管由三层各厚约5纳米(约15个原子)的薄片构成,薄片间距为9纳米。

IBM强调,与2nm芯片相比,新芯片预计将实现显著性能飞跃——性能提升最高可达50%,或能效提升高达70%。
IBM研究人员也证明,“纳米栈”架构能够使得SRAM(静态随机存取存储器)规模提升40%。IBM声称,这是内存容量方面的一次巨大跃升,类似幅度的进步行业十多年来未曾见到。片上内存访问是AI计算中的关键瓶颈之一,而团队通过新的7埃米设计解决了这一问题。
与5年前不同,IBM暂未公布“亚纳米芯片”的生产合作伙伴,仅表示目标在未来五年内将亚纳米芯片技术商业化部署。

据悉,IBM目前正与日本代工厂Rapidus合作扩大2纳米工艺芯片的制造规模,同时全球三大代工厂(台积电、三星和英特尔)都已启用IBM开发的2纳米技术进行芯片量产。
IBM Research负责人杰伊·甘贝塔(Jay Gambetta)表示:“制造这些亚纳米芯片的合作伙伴将在’稍后’公布。随着两纳米已成为产业标准,我们预计这是下一次技术跃迁。我们希望看到它成为未来的平台。”

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