美国1.5亿美元入股xLight公司：研发全新EUV光刻机 4倍强于ASML

先进工艺愈发离不开EUV光刻机，然而全球唯一能量产EUV光刻机的只有荷兰ASML公司，美国自己也没有，所以美国官方也大力投资国产EUV开发。

在这个领域美国官方已经投资了多家初创企业，其中有一家名为xLight，CEO是Intel公司前CEO基辛格，公司计划开发全新的自由电子激光器FEL为光源的EUV光刻系统，原型计划在2028年问世。

这家公司目前正在洽谈3.5亿美元的融资，领投的机构可能是Boardman Bay Capital Management与Bain Capital，该公司还在游说ASML、台积电、Intel及美光等公司参与投资。

在此之前，xLight公司已经获得了2亿美元的投资，其中美国政府根据芯片补贴法案就给了1.5亿美元，已经变成主要股东了。

光源是EUV光刻机的核心技术，与ASML公司走LPP等离子体激光技术不同，xLight公司的FEL自由电子激光器技术更先进，光源功率可达1000W，而ASML公司的EUV光刻机光源也就250W，这方面FEL光源是ASML的4倍强。

光源功率越强大，制造芯片的效率就越高，产能也会越大，ASML公司也计划提升EUV光刻机的光源，之前公布过600W功率的，未来目标也是1000W功率。

不过xLight公司的PPT目标更远大，除了1000W功率，2000W功率的光源也是他们要做的，只不过需要的时间更长。