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抢占1.4nm节点先机 Intel 14A良率已达40%:明年就见到
2026-06-17 02:12:55
神评论
17173 新闻导语
Intel 14A工艺良率狂飙至40%!1.4nm节点抢先布局,最快明年见芯片测试。与台积电竞争杀手锏,美国制造血统吸引苹果等巨头。抢占先机,速览Intel先进工艺新突破!
前不久Intel官方发布CEO陈立武上任一年的成绩,其中就提到18A工艺多产品大规模量产,14A工艺开发如期进行,显示他们在先进工艺上终于能稳了。
在这两个工艺中,14A工艺无疑更加重要,因为18A工艺主要是Intel自产自用,14A工艺则是获得外部大客户订单的关键,也是Intel跟台积电竞争1.4nm节点的杀手锏。
来自摩根斯坦利的一份研报给出了不少好消息,称14A工艺已经到了0.5缺陷密度水平,良率则达到40%,明年Q1季度缺陷密度会降至0.1-0.2,风险试产是2028年,量产则是2029年,时间点跟台积电那时的先进工艺差不多。
但14A工艺的芯片最快明年就能见到,因为Intel内部测试时间更早,预计2027年就能开始14A工艺芯片测试。

如果Intel内部的测试也很顺利,那14A工艺的前景显然一片光明,在当前台积电产能紧张且持续大涨价的情况下,1.4nm级别的先进工艺价值极大,而且Intel还是美国正黄旗出身,美国制造的纯正血统足以吸引很多客户,苹果、谷歌、微软、亚马逊、Meta现在都是手握重金也要寻找第二家芯片代工厂呢。

【来源:快科技】
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