中国刻蚀机之父：中国首创刻蚀技术中芯国际率先采用 后来被全球抄作业

中微公司现在是台积电先进制程的刻蚀机装备的设备供应商，刻蚀机换供应商非常困难，之前一直是泛林集团（Lam Research）、应用材料（Applied Materials）、东京电子（Tokyo Electron）垄断。

在央视财经播出的《对话》中，被问及“为什么能从强者当中撕开一个口子闯进去”时，中微半导体设备（上海）股份有限公司董事长兼总经理尹志尧表示：“我们真正相处一些绝招，国际上没用过的东西。”

他介绍，中微公司首创的甚高频去耦合反应离子刻蚀技术，三年后被国际三大设备公司全部效仿，现在全球100%的CCP（电容耦合等离子体设备）刻蚀机都采用这一技术。

此外，双台机设计也是中微首创，可以单台操作，两边能同时刻蚀，可节省30%以上的材料成本，售价远低于国际供应商且性能更优。

“让我永远忘不了的是，第一次两片硅片放到两个台里，左边放一片（硅片），右边放一片（硅片），分别刻蚀的速度就差了0.1个纳米，这是2007年就达到了。”

尹志尧还提到，首先是中芯国际张汝京博士带头吃螃蟹，试我们，结果试成了，后来我们就有信心进入了中国**市场。

他透露，2023年12月，中微决定进入大平板设备领域（此前大概有17种工艺设备全部依赖进口）。这种设备重达150吨，长15米宽15米，有两层半楼高。

按照尹志尧的经验，开发这样的设备至少需要3-7年。但中微的精锐团队只用12个月就从一张白纸做出了可运转的设备，不到4个月就达到客户下一代要求，18个月就运到生产线上并通过核准。

“我们现在已经有能力来做最先进的设备，”尹志尧说。

1944年出生于北京的尹志尧被称为“中国刻蚀机之父”，在美国深耕数十年，手握几百项专利，先后在泛林、应用材料出任高管。60岁时，他毅然放弃百万年薪回国创业，回国时，所有员工不许带文件，用空白电脑从头开始。

2004年初创至今，中微公司坚持自主创新，旗下多款等离子体刻蚀设备受到行业青睐。

22年后，中微公司市值突破2714亿元，设备进入台积电5nm、3nm先进制程供应链，他本人也恢复了中国国籍。