黄仁勋自曝NVIDIA新一代GPU GAA带来20%性能提升

最近，在GTC 2025大会上，黄仁勋在接受采访时提到，下一代采用环绕栅极（GAA）晶体管的制程技术，会让新一代的GPU性能提升大约20%。

按照正常情况来说，黄仁勋说的这代新GPU，大概率就是计划在2028年发布的那个Feynman。

有消息指出，在回答问题的时候，黄仁勋好像有意弱化了制程节点变化的作用，他特别提到摩尔定律变慢这件事。他说，这意味着以后的新制程技术，在密度、功耗或者能效上的进步空间会比较小，预计性能提升也就20%左右吧。

黄仁勋还说，虽然那些用最先进工艺做出来的东西挺受欢迎，但现在已经没那么革命性了。“我们会用的，”他说，不过他也表示还有别的更重要的事儿。现在AI系统越来越大，管理一堆GPU的效率比单个GPU跑得多快更重要。

一般来说，英伟达不会第一个用台积电最新的工艺，而是挑稍微旧一点但成熟的工艺。

比如说，英伟达现在用的是台积电的4nm工艺，给消费级和数据中心造Ada Lovelace、Hopper和Blackwell这些架构的GPU。其实台积电的4nm就是改良版的5nm。

英伟达下一代的RuBin架构GPU，计划用台积电的3nm工艺，可能是N3P，也可能是专门给英伟达定制的版本。

所以，英伟达第一款用GAA（全环绕栅极）工艺的产品，估计得等到2028年的Feynman架构了。

当然黄仁勋也没明说会用哪家的GAA工艺。所以理论上，台积电的N2工艺、三星类似的工艺，甚至英特尔的18A工艺都有可能。

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