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光刻机冷却关键材料氦气受战乱冲击 台积电回应:影响不大

2026-03-14 12:00:39 神评论
17173 新闻导语

全球氦气短缺冲击半导体生产?台积电回应:影响不大。了解氦气在光刻机冷却中的关键作用及3nm工艺需求。

最近半个月全球战乱又起,不仅严重影响了石油、天然气等能源供应,甚至还对半导体行业有影响,尤其是氦气。

对于当前的氦气紧缺担忧,全球最大的晶圆代工厂台积电也做出了回应,表示目前不会对运营有重大影响,但会保持关注。

半导体工艺极为复杂,需要用到多种特种气体,氦气就是其中用量较大也很重要的一种,它的沸点低至-268.9℃,是自然界中最难液化的物质,具备极强的化学稳定性、导热性与渗透性。

在半导体生产过程中,光刻机及离子注入机都需要用氦气冷却,还是晶圆清洗、蚀刻工艺中的保护气体,对稳定生产很重要。

根据Yolo的数据,3-7nm工艺的晶圆每片生产需要120升氦气,3nm以下的先进工艺则要150升,而且7N纯度也提高了一个量级。

全球氦气生产主要来自天然气,因此主要能源国在这方面优势很大,产量第一的是美国(资源量能占全球40%)。

中东地区的卡塔尔今年来成为世界第二,去年产量6000万平方米,占全球1/3左右,也是我国进口的主要来源,美国进口的数量因为众所周知的原因已经是极低占比了。

【来源:快科技】
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